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氧化鋅(ZnO)地膜的性能綜合
ZnO存在熔點高、制備容易、沉積熱度低和較低的電子誘生缺點等長處。硅基成長的ZnO地膜有指望將光電子器件制作與傳統的硅立體工藝相兼容。另外，在通明導熱膜的鉆研上面，摻鋁ZnO膜(ZAO)也有同ITO膜可比較的光學電學性質，可在光電預示畛域用來作為通明電極。
ZnO地膜的高電阻率與繁多的C軸結晶擇優取向決議了它存在良好的壓電常數與機電嚙合系數，可用作各族壓電、壓光、電聲與聲光器件。存在中級大小電阻率的ZnO地膜是一種n型半超導體，其與一種合適的p型半超導體相聯合能夠在月亮能光電轉換畛域中作為一種異質結。
因存在電阻率隨名義吸附的氣體深淺變遷的特點，ZnO地膜還可用來制作名義型氣敏元件。經過摻入相反元素，可利用于還原性堿性氣體、可燃性氣體、CH族氣體探測器、報警器等。另外，它還在藍光調制器、低破財率光帶導、液晶預示、光催化、電子錄相機、熱反照窗等畛域存在潛在利用。
1、氧化鋅(ZnO)地膜的光學性能
ZnO地膜在可見光規模內光透射率高達90%，能夠用作優質的月亮電池組通明電極，然而它在紫外（UV）和紅外（IR）光譜規模內透射率都比擬低，這一性質被用作相應光譜區的阻擋層。
圖3是沉積ZnO地膜的樣品與其基材石英玻璃片透射率的比擬，內插圖為400~750nm的可見光規模的后果比擬。能夠看出，在410~750nm的區間內，沉積ZnO地膜的樣品，其透射率均大于石英的透射率，最大可普及2.3%。由此可知制備出的ZnO地膜曾經在定然水平上起到了增透膜的動機，這一后果無望在月亮能電池組中失去利用。
圖4是Al摻雜ZnO（ZAO）地膜作為通明導熱膜的透射光譜和紅外反照譜。作為通明導熱地膜的一個顯著特點是在紅外段的高反照率，能反照大全體的熱輻射能量。將其利用于電子器件中，可防止電子器件吸引太多能量而造成升壓過快、過高，莫須有運用動機。
2、氧化鋅(ZnO)地膜的電學性能
因為ZnO地膜中存在本征檀越缺點，如間隙Zn原子團、O空位等，使得ZnO地膜自然呈弱n型導熱。因而ZnO地膜的電阻率正常較高，在10-2Ω·cm單位級。但經過調整成長、摻雜或退火條件可構成容易半超導體地膜，導熱性能大幅普及，電阻率可升高到10-4Ω·cm單位級。
圖5是Al摻雜ZnO地膜的電阻率、電子密度和電子遷徙率與（ZnO）1-x（Al2O3）x陶瓷靶材（x=w(Al2O3)=0、0.01、0.02、0.05）中Al2O3品質分數的關系曲線[5]。能夠看出，Al摻雜ZnO地膜的電阻率隨靶材中Al摻入量的增多出現先減小后增大的特色，注明適量的Al摻雜能夠失掉導熱性能較好的n型Al摻雜ZnO地膜。Al摻雜ZnO地膜的電阻率最低為7.85×10-4Ω·cm，這可歸因于該Al摻雜ZnO地膜同聲存在高電子深淺和較高電子遷徙率。
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